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当季大流行 【CD-ROM版】「EUV(極端紫外線)光源」技術開発実態分析調査報告書-経営戦略・管理


■パテントテック社  

■編集者:インパテック株式会社
■発刊日:2018年11月12日
■資料体裁:A4判、222頁、【CD-ROM版】
■ISBN:978-4-86685-066-5
<収録内容>
書籍(PDF)とパテントマップViewer(閲覧ソフト)
およびパテントマップ・チャート(パテントマップEXZデータ)
が収録されています



★他社の技術開発の実態を把握し、勝ち抜くためのエッセンス

■本誌の特徴等
1.調査目的
 「EUV(極端紫外線)光源」に関する公開件数、出願人(共同出願人)、発明者、特許分類、キーワードなどに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、
 (1)「EUV(極端紫外線)光源」についてどのような技術の公開があるか、
 (2)各企業の技術開発はどのように推移しているか、
 (3)最近10年余における関連技術の出現・消失状況はどのようになっているか、
 (4)各企業間の連携状況はどのようになっているか、
 (5)直近2年間における企業及び技術の注目すべき動向は何か、
 (6)この分野に強い弁理士(特許事務所)と企業の利用状況はどうか、
等を明確にして、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2.特許情報の収集方法
 本調査報告書は、「EUV(極端紫外線)光源」に関する過去10年余(国内公開日:2008年1月1日~2018年7月31日)に及ぶ公開特許について、検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。
特許情報公報の総数は 9,034件 である。

3.報告書の構成
 本報告書は、以下の3つの部分から構成されている。
1.パテントマップ編
 A.2016年8月~2018年7月に新規出現した出願人、分類による動向分析
 B.全般分析
 C.上位20出願人比較分析
 D.上位5出願人個別分析
 E.特定4出願人比較分析(1位カール・ツァイス・エスエムティー、2位ギガフォトン、3位エーエスエムエルネザーランズ、4位富士フイルム)
 F.上位20特許分類分析
 G.特定特許分類分析
   G-1.特定特許分類分析(1)
    ・FI分類(深さ18)
    ・Fターム分類(深さ10)
   G-2.特定特許分類分析(2)
    ・Fターム分類(深さ8)
 H.キーワード
   ※キーワード(発明の名称、要約、請求の範囲、産業上の利用分野、発明の効果、課題手段から抽出)においては、
   下記1グループの観点から分析を行った。
   ・目的・効果系(低コスト、高変換効率、小型化、最適化など8個)
 
 I. 弁理士(特許事務所)の動向分析

2.パテントチャート編

3.総括コメント

4. 本報告書の特徴
● 「EUV(極端紫外線)光源」に関する最近10年余、さらには直近2年間(最新月まで)の技術動向が分かりやすく把握できる。
● 本技術分野に関係する弁理士(特許事務所)の動静が読み取れる。
● パテントマップで視覚的に理解しやすい。

★内容の詳細は書籍版
「EUV(極端紫外線)光源」技術開発実態分析調査報告書をご覧下さい。